Advies & Technische ondersteuning:+31 (0) 172 27 6000
International - English België - Nederlands Belgique - Français Deutschland - Deutsch
0
0

Precisie­reiniging voor cleanroom- en vacuümtoepassingen

Reiniging tussentijds en met name aan het eind is dé stap die bepaalt of je de laatste verontreinigingen (sub-micron, ionisch, residu) wegneemt.

Mavom biedt reinigingsoplossingen met SAFECHEM (DOWCLENE™*, DUALENE™ en HYDRENE™) en Chemours Opteon™.

Precisie­reiniging voor cleanroom & vacuüm

Zelfs bij goede procesvoering kunnen residuen achterblijven: sub-micron deeltjes, ionen en procesfilms. Precisie­reiniging is daarom een vereiste stap om te kunnen voldoen aan cleanroom- en vacuümvereisten zoals bij GSA Grade 2 of zelfs GSA Grade 1.

Met name de tussenreiniging en eindreiniging zijn bepalend voor het verwijderen van de laatste kritische verontreinigingen. De gekozen reinigingsmethode moet daarbij aansluiten op het type vervuiling, de componentgeometrie en de gewenste reinheid. Mavom ondersteunt dit met gevalideerde reinigingsoplossingen van SAFECHEM en Chemours Opteon™, die geschikt zijn voor uiteenlopende precisie­reinigingsprocessen.

SAFECHEM –  DOWCLENE™*, DUALENE™ en HYDRENE™

SAFECHEM levert:

  • DOWCLENE™* en DUALENE™ gemodificeerde alcoholen voor dampontvettingsmachines (gesloten systemen)
  • HYDRENE™ watergedragen reinigers voor ultrasoonreiniging

In veel processen ondersteunt dampontvetten met DOWCLENE™ een reiniging die past binnen GSA Grade 2. Door een extra ultrasoonstap met HYDRENE™ toe te voegen, kan (afhankelijk van component en vervuiling) een route ontstaan richting GSA Grade 1.

Chemours Opteon™ (HFO) – high-end batchreiniging

De Opteon™-reeks bestaat uit reinigingsmiddelen op basis van HFO’s, ontwikkeld voor high-end precisie­reiniging en kleinschalige batchprocessen. Ze zijn geschikt voor het verwijderen van:

  • sub-micron deeltjes
  • ionische vervuiling
  • procesresiduen van gevoelige oppervlakken

DUALENE™ HPS – high purity reiniging voor kritische toepassingen

DUALENE™ HPS is een high purity gemodificeerde alcohol die speciaal is ontwikkeld voor precisie­reiniging in cleanroom- en vacuümtoepassingen met zeer hoge eisen aan zuiverheid en lage uitgassing.

Het product ondersteunt een stabiel en reproduceerbaar reinigingsproces en wordt toegepast in onder andere de halfgeleiderindustrie en (ultra)hoogvacuümtechnologie, waar moleculaire contaminatie en uitgassing kritisch zijn.

Wanneer kiezen voor DUALENE™ HPS?

  • Zeer hoge eisen aan reinheid en oppervlaktekwaliteit
  • Kritische vacuüm- of high-purity toepassingen
  • Wanneer standaard gemodificeerde alcoholen niet toereikend zijn

Welke reinigingsroute past bij uw toepassing?

De juiste reinigingsmethode hangt af van het type vervuiling, de componentgeometrie en de vereiste reinheid. In de praktijk gelden vaak de volgende richtlijnen:

  • Olie-, vet- en procesfilms
    Meestal effectief te verwijderen met dampontvetting, zonder mechanische belasting van het component.
  • Deeltjesverontreiniging en ionische resten
    Vaak is een aanvullende reinigingsstap, zoals ultrasoon reinigen, nodig om ook vervuiling in holtes en complexe geometrieën te verwijderen.
  • Zeer hoge reinheidseisen (bijvoorbeeld richting ASML GSA Grade 1)
    Doorgaans vereist dit een gecombineerd reinigingsproces, aangevuld met zorgvuldig gecontroleerde handling, droging en verpakking.

Let op: de optimale reinigingsroute is altijd procesafhankelijk en dient bij voorkeur te worden gevalideerd.

Kom meer te weten over de volgende oplossingen:
Naar boven